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1273nm激光器采用量子阱結(jié)構(gòu)的激光器

更新時(shí)間:2023-02-02  |  點(diǎn)擊率:1038
  HF是一種無色而又帶有辛辣氣味的刺激性氣體,易溶于水,無限溶于水后形成氫氟酸,是一種一元弱酸,有毒,對皮膚有腐蝕作用,也可經(jīng)吸入途徑對人體造成傷害。氟化氫在工業(yè)上用途極其廣泛,常用于各種含氟化合物的制造,也可用作分析試劑,制造高純氟化物,而在電子工業(yè)或者說半導(dǎo)體工業(yè)制造中,常用作強(qiáng)酸性腐蝕劑,主要使用在酸洗、腐蝕、灰分處理等工藝上。
  1273nm激光器采用量子阱結(jié)構(gòu)的DFB激光器,內(nèi)置半導(dǎo)體制冷器,標(biāo)準(zhǔn)封裝工藝實(shí)現(xiàn)蝶形尾纖式封裝,結(jié)構(gòu)緊湊,體積小,在光纖通信領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用;半導(dǎo)體制冷器高精度溫度控制下,激光器功率高穩(wěn)定、波長高穩(wěn)定的優(yōu)勢,使得激光器在光纖傳感器領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。廣泛應(yīng)用于石油化工、工業(yè)生產(chǎn)、煙氣尾氣環(huán)境監(jiān)測、污水治理、生物制藥、家居環(huán)保、學(xué)校實(shí)驗(yàn)室等領(lǐng)域。
  1273nm激光器作用的原理:
  產(chǎn)生激光的條件是粒子數(shù)反轉(zhuǎn)和增益大于損耗,所以裝置中的組成部分有激勵(或抽運(yùn))源、具有亞穩(wěn)態(tài)能級的工作介質(zhì)兩個(gè)部分。激勵是工作介質(zhì)吸收外來能量后激發(fā)到激發(fā)態(tài),為實(shí)現(xiàn)并維持粒子數(shù)反轉(zhuǎn)創(chuàng)造條件。激勵方式有光學(xué)激勵、電激勵、化學(xué)激勵和核能激勵等。工作介質(zhì)具有亞穩(wěn)能級是使受激輻射占主導(dǎo)地位,從而實(shí)現(xiàn)光放大。
  激光器中常見的組成部分還有諧振腔,但諧振腔并非組成部分,諧振腔可使腔內(nèi)的光子有一致的頻率、相位和運(yùn)行方向,從而使激光具有良好的方向性和相干性。且,它可以很好地縮短工作物質(zhì)的長度,還能通過改變諧振腔長度來調(diào)節(jié)所產(chǎn)生激光的模式,所以一般激光器都具有諧振腔。
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